İnce film kaplamalarda buhar kaynağı olarak yaygın olarak kullanılan ve diğer yöntemlere göre birçok avantaj sunan bir yöntem de katı malzemeyi pozitif iyonlarla bombardıman yaparak yüzeyden atomları sıçratma işlemidir.
• Sıçratma işleminde diğer malzemeler ile reaksiyona girmeyecek inert gaz örneğin argon iyonları (Ar+) kullanmak gerekmektedir.
• İyon kaynağı olarak iyon tabancası yada plazma kullanılabilir.
• Elde edilen iyonlar yüksek hızlarda hedef olarak adlandırılan buharı elde edilecek malzeme yüzeyine çarptırılarak ya malzeme latisi içine girip kalabilir, ya enerjilerini bırakarak geri saçınabilir yada yüzeyden bir atom koparma durumları ortaya çıkabilir.
• Sıçratma işleminde iyonun yüzeyden atom koparması için kütlelerinin oldukça büyük olması gerekmektedir. Bu nedenle argon ile yapılan sıçratma işlemi diğer inert gazlara, örneğin helyuma göre daha verimli olmaktadır.
• Sıçratma yöntemi ile kaplama uygulamalarında daha çok plazma yani negatif, pozitif yüklü ve yüksüz parçacıklar, x-ışınları ve bunların çarpışmasının bulunduğu ortam iyon kaynağı olarak kullanılmaktadır.
Kaynak: Yrd. Doç. Dr. Atilla Evcin’in “2006 yılı Kaplama Teknikleri Ders Notları”ndan derlenmiştir.
